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光刻用英语怎么说,光刻的英文翻译

光刻

[计]photoetching
网络photoetching；lithography；photoengraving；photolithograph
双语例句更多资料

1 . Electron - beam lithography with a novel multilevel resist structure defines the pattern.

采用新型的多层抗蚀剂结构的电子束光刻来形成图形.

来自辞典例句

2 . The paper also emphatically studies some main applications of interferometric lithographic technology.

故本文还着重研究了干涉光刻技术的一些主要应用.

3 . Individual sodium titanate nanowire - based device is fabricated via e - beam lithography techniques.

利用电子束光刻技术制作了基于钛酸钠纳米线的纳米器件.

4 . In this paper a scanning mirror control system is introduced.

本文介绍了同步辐射光刻镜扫描控制系统.

5 . APPLICATION: Suitable for sterilization, photoengraving, water treatment, medical treatment and breeding.

用途: 适用于杀菌 、 光刻、 水处理 、 医疗、育种等领域.

相关词 精密光刻光刻字机光刻成象双面光刻掩模光刻光刻掩蔽光刻工艺激光刻槽光刻蚀法毫微光刻光刻胶膜行业释义网络释义 电子学

1.photolithography

航天

1.photolithography

-光刻

1 . photoetching

电子发烧友为您提供的光刻技术常见方法,光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺在此之后,晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。被.

2 . lithography

lithographic resolution 光刻清晰度lithography 光刻lithography machine 光刻机

3 . photoengraving

photoemulsion 照相乳胶photoengraving 光刻photoetching =photoengraving

4 . photolithograph

调节光刻机光能量为7 mW,/cm2,曝光60s,用接触曝光方式将掩模上的图形转移到...a.甩胶 (photoresistcoating);b.光刻(photolithograph);c.显影(devel叩ment).

相关词条+x 射线光刻

1 . x ray lithography

x ray laser x 射线激光器x ray lithographyx 射线光刻x ray mask x 射线掩模

2 . x ray printing

...x ray photoelectron spectroscopy x 射线光电子能谱学x ray printingx 射线光刻x ray quantum x 射线量子

+光刻的

1 . lithography technology to

the authors use lithography technology tofabricate all kinds of ITO and electrodes patterns in diode-type CNT-FED .在碳纳米管场致发射显示器件结构中，需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案。

2 . lithography technology

the authors use lithography technologyto fabricate all kinds of ITO and electrodes patterns in diode-type CNT-FED .在碳纳米管场致发射显示器件结构中，需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案。

+光刻机

1 . Stepper

zh.wikipedia.org 光刻机（Stepper）是制造大规模集成电路的关键设备。生.

+投影光刻

1 . projection lithography

projection imaging 投影成像projection lithography投影光刻projection mask 投影掩模

百科

光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留的是特征图形部分。。