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光致抗蚀剂用英语怎么说,光致抗蚀剂的英文翻译

光致抗蚀剂

[化]photoresist
网络photoresist
双语例句更多资料

1 . This paper reports a simple process using photoresist as sacrificial layers to fabricate movable microstructures.

报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术.

相关词 光致抗蚀剂树脂光致抗蚀剂显影负性光致抗蚀剂光致抗蚀剂掩模负型光致抗蚀剂双重光致抗蚀剂高分辨率光致抗蚀剂光致抗蚀剂掩模图形行业释义网络释义 化学

1.photoresist

-光致抗蚀剂

1 . photoresist

光致抗蚀剂(photoresist)是制造超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路集成度的不断增加,光致抗蚀剂由g线(436nm)胶、i线(365nm)胶,逐渐发展到深紫外.

相关词条+双重光致抗蚀剂

1 . double photoresist

double modulation 双重灯double photoresist双重光致抗蚀剂double poly process 双层多晶硅栅金属氧化物半导体工艺.

+光致抗蚀剂显影

1 . development of photoresist

development flow 试制撂development of photoresist光致抗蚀剂显影development tools 自动设计工具

+光致抗蚀剂掩模

1 . photolacquer mask

photoionization 光电离photolacquer mask光致抗蚀剂掩模- 基于22个网页

2 . photoresist mask

photoresist lift off 光刻胶剥离photoresist mask光致抗蚀剂掩模photoresist maskpattern 光致抗蚀剂掩模图形.

+光致抗蚀剂的电子束曝光

1 . Electron-beam photo-resist exposure

Electron affinity 电子亲和势 Electronic -grade 电子能 7 Electron-beam photo-resist exposure光致抗蚀剂的电子束曝光 Electron gas 电子气 Electron-grade water.

百科

简称光刻胶或抗蚀剂，指光照后能改变抗蚀能力的高分子化合物。光蚀剂分为两大类。 ①正性光致抗蚀剂：受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解。留下的非曝光部分的图形与掩模版一致。正性抗蚀剂具有分辨率高、对驻波效应不敏感、曝光容限大、针孔密度低和无毒性等优点，适合于高集成度器件的生产。 ②负性光致抗蚀剂：受光照部分产生交链反应而成为不溶物，非曝光部分被显影液溶解，获得的图形与掩模版图形互补。负性抗蚀剂的